开云网页登录口:鼎龙股份CMP抛光液多范畴打破 自研磨料助力第三代半导体商场拓宽

来源：开云网页登录口    发布时间：2026-05-29 06:46:13

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  鼎龙股份控股子公司鼎泽新资料在半导体资料范畴完结重大打破，其自主研制的CMP抛光液系列新产品在先进制程、老练制程及第三代半导体范畴同步取得要害发展。公司宣告，中心产品已斩获国内头部晶圆厂“优异供货商”奖项，铜阻挡层抛光液与碳化硅衬底抛光液均取得批量订单，标志着其技能打破正式转化为商场效果。

  在先进制程范畴，鼎泽新资料的高介电金属栅极（HKMG）氧化铝抛光液打破海外独占，成为国内干流逻辑芯片代工厂安稳供货三年的中心资料。该产品搭载自主研制的氧化铝研磨粒子，从质料端完结技能自主可控，处理了长时间依靠进口的“卡脖子”问题。此次获奖正是对其在HKMG及铜制程CMP抛光液供给安稳性与配套服务才能的高度认可。

  老练制程方面，公司自主研制的铜阻挡层抛光液近期取得国内某晶圆厂批量收购订单，成为第三家选用该产品的客户。这一效果验证了其产品的通用性与适配性，标志着鼎龙股份在铜制程抛光液范畴完结多客户、多场景的商场化落地，为国产代替进程注入新动能。据发表，铜制程抛光液在国内抛光液商场规模中占比超45%，2026年国内商场容量有望打破40亿元。

  第三代半导体范畴成为本次打破的另一焦点。鼎龙股份依托自主氧化铝磨料技能，成功研制出适配碳化硅（SiC）衬底的抛光液，并取得国内客户批量订单。该产品填补了国内第三代半导体抛光液自主供给链的空白，完结了从0到1的要害跨过。公司方案以此为关键，加快推动SiC粗抛、精抛全系列新产品的研制与产业化，进一步稳固技能壁垒。

  从商场布局看，鼎龙股份已完结CMP抛光液全品类掩盖，产品应用横跨集成电路制作、单晶硅晶片加工、先进封装及第三代半导体四大范畴。产能建造同步提速，武汉本部具有年产5000吨抛光液生产才能，仙桃基地则布局了年产1万吨CMP抛光液及1万吨配套纳米研磨粒子产线。随商场拓宽深化，产能利用率继续提高，为后续订单放量供给坚实保证。

  业内人士指出，鼎龙股份此次在三大事务板块的协同打破，不只加快了半导体中心耗材的国产化进程，更经过自主磨料技能构建起差异化竞赛优势。尤其在第三代半导体资料范畴，其从质料到制品的完好技能链，为国内产业链安全供给了重要支撑。回来搜狐，检查更加多

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